众所周知，去年10月份美国针对中国的芯片产业，进行了全面的封锁。从逻辑芯片到NAND闪存，再到DRAM存储，美国有着明确的目标。
而今年，美国更是联手荷兰，日本全面围堵中国芯片产业，彻底堵住中国联手荷兰、日本，绕过美国管制的可能性。
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而在日本出台了半导体设备禁令之后，荷兰也正式出台了半导体设备禁令，针对光刻机等等设备进行了明确的规定，并将于9月1日正式执行，靴子正式落地。
荷兰管制的两家企业主要是ASML，ASM，针对的主要是先进的沉积设备和浸润式光刻系统。
在管制的具体条款中，涉及到EUV技术的所有设备、技术等一律禁止，包括EUV光刻机、EUV光罩、沉积、外延、生长等等环节，只要与EUV相关，就被禁止出口。
另外涉及到14nm及以下工艺的所有半导体设备、技术等，也被禁止出口，除非获得许可证，而这个许可证很明显是不会颁发给中国的。
并且从规则来看，已经销售出去的设备，后续的维修、保养等，居然也需要被限制，没有许可证，都不能维修……你说这狠不狠？
不过，在仔细分析了荷兰关于光刻设备的禁令之后，我发现荷兰针对光刻机，还是给中国留了一道口子的，很多网友称这可能是ASML故意留出来的一个“漏洞”。
为何这么说呢？那就是浸润式光刻机中， TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统被限制，但TWINSCAN NXT：1980Di没有被限制，可以出口。
而这台光刻机，则是ASML留出来的一个漏洞，为何这么说？因为 NXT:1980Di系列，采用193nm波长的光源，但也是浸润式光刻机的一种，分辨率为38nm，数值孔径为，这些参数与TWINSCAN NXT：2000i及后续的浸润式光刻机基本一致。
这台光刻机，在经过多重曝光之后，最高可以用于生产7nm的芯片，当然也能用于14nm、28nm、40nm等工艺。
在日本的芯片禁令中，这种即可以用于7nm，又能够用于28nm、40nm等的光刻机，日本是只要沾上14nm及以下，直接是一刀切，直接一禁了之。
但ASML则不然，还是留了一线，没有全部堵死，这就是网友所说的ASML故意留出来的一个“漏洞”。或许ASML也明白“做人留一线，日后好相见”？
ASML的总裁曾说，给中国一点时间，中国什么都能自己研发出来，或许ASML也就是担心这个，所以不至于全部堵死，这样自己的市场，还能保住几分。
